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光学电子工业超纯水系统

光学电子工业超纯水系统

水源为自来水,采用UF+RO+EDI的处理工艺,处理能力为1200T/D,2009年8月投入运行,出水电阻率≥18MΩ.cm2,完全达到电子工业超纯水的水质要求。


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